抄録
我々は，水酸化ハフニウムに有機酸を添加することにより水系のハフニアゾルを作製した。本研究では，水酸化ジルコニウムに水系でギ酸を加えることによりジルコニアゾルを作製し，それを用いて紫外線照射によりジルコニア薄膜を作製した。水酸化ジルコニウムを水に加えギ酸を添加してpH1として加熱することにより，透明なジルコニアゾルを得た。これをガラス基板に塗布し，紫外線を照射することによりジルコニア薄膜を作製した。この薄膜はアモルファスであった。鉛筆硬度は9H以上であり高硬度を示した。水に対する接触角は経時により上昇し，薄膜作製後8日後約80°となりやや撥水性を示した。
