ゾル‐ゲル法によるチタニア多孔体作製と多重光散乱を用いた光の局在化

抄録

光の波長程度の空間スケールで誘電率がランダムに変化した構造に光が入射すると、その光は多重散乱を受け、散乱強度が非常に強い場合、光が局在すると考えられている。強い散乱強度を得るためには高屈折率差を有し、正確に制御された構造が必要となる。本研究ではチタニウムアルコキシドを用い、相分離を伴うゾル‐ゲル系においての酸化チタン多孔体の作製を行った。また、光の局在化に対する構造依存性を考察した。