日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
2005年年会講演予稿集
セッションID: 3J19
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コンビナトリアル静電噴霧プロセスの開発(2)
*藤本 憲次郎高橋 秀和古川 尚稔加藤 武二伊藤 滋井上 悟渡辺 遵
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抄録
液体に高電圧を印加して微細化させて基板となる表面へ緻密に堆積させる静電噴霧技術と短時間で効率的に多くの組成組み合わせの試料群を作製作製することができるコンビナトリアルケミストリーの概念を融合させたコンビナトリアル静電噴霧システムの構築を行った。当該システムは大気圧下での試料作製が可能であるため、多く気相反応で利用されているCVDやPVDのよりも多くの元素に対して利用が可能である。また装置開発の過程で、液体に印加させる電圧条件を変化させることで、基板上への薄膜堆積のみならずある一点への粉末試料堆積が可能であることが確認された。それゆえ、今回開発した当該システムは一台でバルク・薄膜の高速作製を行える効果的なシステムであるといえる。
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©  日本セラミックス協会 2005
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