ポリシラザンをシリカ源とするシリカ薄膜の室温合成と性質

抄録

ポリシラザンのキシレン溶液をコーティング液とするスピンコーティングによりSi単結晶上にポリシラザン薄膜を作製した。この膜を室温でアンモニア水上に垂下して曝露処理することによりシリカ薄膜を作製した。曝露処理過程での変化を赤外吸収スペクトルによって追跡するとともに、この膜を熱処理した場合に見られる性質・構造の変化を赤外分光法、接触角測定、応力のその場測定により評価した。