抄録
ゾルゲル法に代表される液相プロセスによるフォトニクス材料合成が盛んに研究されている.液相合成法は分子鋳型技術等との相性も良く,マイクロ_から_ナノ構造を有する薄膜やバルク材料をインチスケールで合成することが可能である.しかしながら,加水分解と重縮合などの複数のプロセスが同時に進行することから,作製過程を精密に制御することが不可欠であり,再現正当がもんだになることが多い.本講演では,縮重合反応のみを利用した無溶媒合成過程について報告する.光パターナブルな低損失シロキサン材料合成や温度光学係数の精密制御等について概説する.