日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
2006年年会講演予稿集
セッションID: 3A07
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TiO2/TiNナノクリスタル薄膜の高速抵抗スィチング特性
*藤本 正之小山 弘
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抄録
常温でのパルス電圧印加によって抵抗値が3ケタ近くも変化する現象(パルス電圧誘起抵抗変化)は、超巨大磁気抵抗効果を示すマンガナイト系ペロブスカイト(Pr1-xCax)MnO3で発見された。最近、同様のパルス電圧による抵抗値変化が、NiO、TiO2でも発見され、不揮発性Xメモリーとしての応用が期待されている。TiN-TiO2ナノクリスタル薄膜で超高速スイッチング(高速抵抗変化)を確認したのでこれを報告する。
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©  日本セラミックス協会 2006
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