1973Kでの大気中におけるAl₄SiC₄-SiC系緻密焼結体の酸化挙動

抄録

Al，SiやC粉末から合成したAl4SiC4-SiC系焼結体について，大気中，酸化挙動（1700℃）について調べた．SiC単味焼結体の保護層は，クリストバライトとガラスであるシリカから構成されるため，形成された気孔の成長により不安定で剥離された．Al4SiC4単味焼結体の保護層は，ムライトとコランダムから構成された．しかし，ムライトとコランダムの粒界を通じて酸素が内部に拡散し，十分に酸化が抑制されなかった．これに対してAl4SiC4-SiC系焼結体の保護層は，ムライトあるいはムライトとシリカから構成され，酸素の拡散を抑制し、剥離せずに安定であった．