クロムとニッケルをドープしたコランダムエピタキシャル薄膜のフラックス育成

抄録

アルミナ多形の中で最も安定した構造のコランダムは，高融点，高硬度あるいは高耐薬品性などの優れた特性をもつため，さまざまな分野で利用されている。近年では，コランダム単結晶基板の需要も高まっている。本研究では，酸化モリブデン系フラックス蒸発法により，クロムとニッケルをドープしたコランダム単結晶薄膜をエピタキシャル成長させた。