抄録
強誘電体材料Pb(Zr,Ti)O3は印加電圧に対して電荷分極値がヒステリシス特性を示し、高速駆動・不揮発性・低消費電圧の優れた機能を持つことから、メモリーへの実用化に向け幅広く研究されている。これまでに高配向薄膜の作製や微細加工(ナノ構造体の作製)などの研究が精力的に行われているが、グレインによる結晶欠陥と特性劣化、加工による表面ダメージが目立つ。そこで本研究ではボトムアップ的手法、すなわち『核形成』と『ナノ結晶成長』に着目した。RFマグネトロンスパッタリング法を用いて高エネルギーのスパッタ粒子を利用し、核形成の位置制御と成長制御を最適化させ、メモリーの高集積化と信頼性向上を目指す。