日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
第20回秋季シンポジウム
セッションID: 2P1K03
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Ni分散SiO2薄膜触媒を用いたカーボンマイクロコイルの合成
*名波 雅大尾関 出光幾原 裕美岩本 雄二河辺 憲次楊 少明元島 栖二
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キーワード: 炭素, ナノ材料
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抄録
アセチレンの触媒活性化熱分解法によって得られカーボンマイクロコイル (CMC)をデバイスや医療分野に応用するには、現在のコイル径(数μm)をさらに小さくする必要である。コイル径を小さくするにはまずファイバー径を小さくする必要があり、そのためには触媒粒子をナノ化する必要がある。そこで、本研究では、Niナノ粒子分散SiO2薄膜を開発し、これを用いてカーボンナノコイルの合成を試みた。反応温度(770℃)に達するまでの時間を短くすると、触媒粒子の粗大化が防止でき、コイルを構成しているカーボンファイバーの径が小さく、従ってコイル径の小さなCMCが得られた。ファイバー径とコイル径との間には良い相関関係が認められた。反応温度770℃で、Si:Niが1:3及び1:5の触媒を用い、コイル径が1~2μmの二重巻きコイルが得られた。
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©  日本セラミックス協会 2007
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