日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
2008年年会講演予稿集
セッションID: 2P165
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金属添加シリカ系水素分離膜材料の高温水素中における化学構造変化
*幡谷 耕二幾原 裕美永野 孝幸佐藤 功二高橋 誠治岩本 雄二
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抄録
コバルトやニッケルなどの金属ナノ粒子を含む複合シリカ膜は、水素のみの透過率が極端に高いという様な非常に特徴的なガス分離特性を示す。しかしながら、その詳細な化学構造やガス透過機構には不明な点が多い。そこで今回XPSを用いて複合材料の化学構造および高温水素処理によるその化学構造変化を評価した。その結果、はじめはイオン性または酸化物として存在している金属成分が、高温水素処理により両成分とも「金属」へと変化することがわかった。
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©  日本セラミックス協会 2008
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