日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
2010年年会講演予稿集
セッションID: 2P159
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ヘキサクロロジシロキサンのアンモノリシス反応を用いたSiOxNyの合成
*横田 洋隆菅原 義之
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抄録
ヘキサクロロジシロキサンCl3SiOSiCl3のアンモノリシス反応を用いてシリコンオキシナイトライドSiOxNy前駆体ポリマーを合成した。具体的には、トルエン溶媒中でCl3SiOSiCl3にアンモニアを-30℃、2時間バブリングして得た。IR分析結果より、アンモノリシス生成物はSi-O-Si結合とSi-NH-Si結合を有するSi-O-Nネットワークを形成していることがわかった。そのアンモノリシス生成物をアルゴン雰囲気下で焼成し、SiOxNyセラミックスを合成した。
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©  日本セラミックス協会 2010
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