真空紫外光照射による各種高分子基板へのシリカ質膜の形成と評価‐シランカップリング剤の影響‐

抄録

ゾル-ゲル法を用いて，ポリメチルメタクリレート，ポリ塩化ビニルおよびポリエチレンテレフタラート基板上にシリカ質膜を形成させ，VUV照射および熱処理を行って，膜の硬度，接着性，さらに耐摩耗性がどの程度向上するか検討を行った。シリカ前駆体を被覆した高分子基板に対してVUV照射を行うと，いずれの場合もシリカ質膜と高分子基板との接着性が強化された。ここで，高分子基板の接着性のさらなる向上を目指して，両者の中間層としてシランカップリング剤を挿入した。作製した試料に対してテープテストを行ったところ，シランカップリング剤の使用によってシリカ質膜と高分子基板との接着性が向上することが分かった。