エアロゾル・デポジション法によるフッ化イットリウム膜の作製と光学フィルターとしての理論的検討

抄録

エアロゾルデポジション（AD）法は、基板加熱を必要とせず緻密な膜が得られるとともに、ガラスや樹脂などのレンズ材料を選ばず密着性の強い皮膜の形成が可能であるため、光学フィルターやフォトニック材料などの光学応用への期待は大きい。本発表では、赤外フィルター向けのフッ化イットリウム膜をエアロゾルデポジションを用いて作製し、その構造および光学的な特性を明らかにするとともに、光学フィルター作製に必要な理論的な検討結果を示す。