Large Area Nanoimprint Mold Fabricated by Electron Beam Stepper

Journal of Photopolymer Science and Technology

Online ISSN : 1349-6336
Print ISSN : 0914-9244
ISSN-L : 0914-9244

Large Area Nanoimprint Mold Fabricated by Electron Beam Stepper

Makoto Okada, Takashi Kishiro, Kaori Yanagihara, Masashi Ataka, Norimichi Anzawa, Shinji Matsui

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キーワード: electron beam stepper, large area mold, exposure time

ジャーナルフリー

2010 年 23 巻 1 号 p. 75-78

DOI https://doi.org/10.2494/photopolymer.23.75

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© 2010 The Society of Photopolymer Science and Technology (SPST)

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