Journal of Photopolymer Science and Technology
Online ISSN : 1349-6336
Print ISSN : 0914-9244
ISSN-L : 0914-9244
Convenient Synthesis of Block Copolymers with Acrylates and PDMS ; Application for PSA Polymer with UV Process
Won-Bum Jang, Young-Eun Kwon, Ji-Won Park, Hyun-Joong Kim
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キーワード: PSA, Pressure Sensitive Adhesive, PDMS, MAI, Silicon-Acrylate Block Copolymer
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2011 年 24 巻 5 号 p. 549-552

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© 2011 The Society of Photopolymer Science and Technology (SPST)
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