Journal of Photopolymer Science and Technology
Online ISSN : 1349-6336
Print ISSN : 0914-9244
ISSN-L : 0914-9244
Novel Resist Materials Using Acid Amplifiers. Part II
Soh Noguchi, Koji Arimitsu, Kunihiro Ichimura, Kazuaki Kudo, Takeshi Ohfuji, Masaru Sasago
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キーワード: chemically amplified resist, phenolic, acid generator
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1997 年 10 巻 2 号 p. 315-316

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