Organic-Inorganic Hybrid Type Electron Beam Resist

Journal of Photopolymer Science and Technology

Online ISSN : 1349-6336
Print ISSN : 0914-9244
ISSN-L : 0914-9244

Organic-Inorganic Hybrid Type Electron Beam Resist

Toshiyuki Tamai, Yukihito Matsuura, Kimihiro Matsukawa, Hiroshi Inoue, Tetsuya Hamamoto, Hiroshi Toyota, Kazuo Satoh

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キーワード: EB Resist, Lithography, Organic-Inorganic Hybrid, Sol-Gel Process, Reactive Ion Etching

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2001 年 14 巻 2 号 p. 185-188

DOI https://doi.org/10.2494/photopolymer.14.185

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© The Technical Association of Photopolymers, Japan

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