Journal of Photopolymer Science and Technology
Online ISSN : 1349-6336
Print ISSN : 0914-9244
ISSN-L : 0914-9244
Acryl Polymer-Silica Hybrid for Electron Beam Resist
Toshiyuki Tamai, Kimihiro Matsukawa, Yukihito Matsuura, Hiroshi Inoue, Hiroshi Toyota, Kazuo Satoh, Hiroki Fukuda
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キーワード: EB Resist, Lithography, Organic-Inorganic Hybrid, Reactive Ion Etching
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2002 年 15 巻 1 号 p. 19-22

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