近赤外光干渉法によるシリコン平面ミラーの形状測定

抄録

本研究はシリコン平面ミラーの形状を近赤外光を用いた干渉法によって測定することを目的としている。シリコンに対し透明な近赤外光を用いることで、シリコンを参照面、被検出面両方に使用することができ、両者の形状測定によるデータを基に形状の修正加工を行い、測定系そのものの精度を向上させることができる。しかしシリコンミラーは反射率が高いため、2光束干渉にならずそのままでは位相シフト法を用いることが困難である。そこで本報では、反射防止膜をつけることで2光束干渉を実現し、その干渉特性について実験、計算の両面から検討した結果について発表を行う。