抄録
筆者らは，これまで，磁気ディスク基板の高速高圧ポリシングによる高能率ポリシング加工を検討し，その除去速度と平滑度について調べ，有効性を示してきた．また，ポリシング加工過程において，ポリシャ摩耗により除去速度は低下するものの平滑度には影響しないことを確認した．本研究では，高速高圧ポリシングにおける重要課題の一つが，長寿命のポリシャによる高除去速度維持であると考え，ポリシャの寿命を検討する観点から，研磨液供給方法および除去量を変化させて，除去速度および平滑度について検討した．また，ポリシャ表面温度についても言及した．
