光放射圧を利用した微粒子制御によるナノ仕上加工に関する研究(第2報)

局所マイクロ領域におけるナノ平滑化特性

抄録

我々は、マイクロ部品に対するナノメートルオーダでの仕上技術として、光放射圧を利用した微粒子制御によるナノ仕上加工技術を提案し、ナノ加工特性の検討を進めてきた。本報では、粗さを持つシリコン表面に対する、局所マイクロ領域でのナノ平滑化加工特性について、詳細に検討したので報告する。