大面積パターン転写を目的としたローラナノインプリントプロセスの開発

装置構成と基本転写性能

抄録

大面積パターン転写を可能にするローラ方式のナノインプリントプロセスを開発した。実験装置を試作して基本転写実験をした結果、100mm角の樹脂基板全面への微細パターン転写が数100N の低加重で高速に行えることがわかった。本講演では、ローラインプリントプロセスの原理、装置構成、およびニッケルスタンパ型を用いた転写実験結果について報告する。