エバネッセント光を利用したナノ光造形法の研究（第9報） DMDによるエバネッセント強度分布制御法の検討

武内 徹; 梶原 優介; 高橋 哲; 高増 潔

doi:10.11522/pscjspe.2007A.0.501.0

2007年度精密工学会秋季大会

セッションID: G39

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2007A.0.501.0

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エバネッセント光を利用したナノ光造形法の研究（第9報）

DMDによるエバネッセント強度分布制御法の検討

*武内徹, 梶原優介, 高橋哲, 高増潔

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キーワード: 三次元造形, エバネッセント光, マイクロ光造形法, 近接場光学, DMD

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抄録

本研究は，三次元微小構造の創成を目的として，光エネルギ局在特性を有するエバネッセント光と，工業的価値の高い一括面露光型光造形法を融合させることによって全く新しい微小構造創製法の確立を目指している．ナノ光造形法を確立するにあたり，任意面内構造の創製は不可欠であり，本報ではDMD（デジタルマイクロミラーデバイス）を導入することで，エバネッセント強度分布を任意に制御する方法の検討を行ったので報告する．

責任著者(Corresponding author)

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