広領域走査可能なAFM描画装置の開発と強誘電体薄板への周期分極反転

大塚 基裕; 岡田 光希; 佐々木 彰; 粟野 春之; 皆方 誠; 岩田 太

doi:10.11522/pscjspe.2008A.0.177.0

2008年度精密工学会秋季大会

セッションID: C17

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2008A.0.177.0

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主催: 社団法人精密工学会

広領域走査可能なAFM描画装置の開発と強誘電体薄板への周期分極反転

*大塚基裕, 岡田光希, 佐々木彰, 粟野春之, 皆方誠, 岩田太

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キーワード: 原子間力顕微鏡, 第二高調波発生, 強誘電体結晶, ニオブ酸リチウム, ナノ加工

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抄録

現在，より短波長のレーザ光を得る方法として，強誘電体薄膜基板に周期分極反転を施したSHGデバイスが注目されている．周期分極反転を施す方法として，従来よりフォトリソグラフィー法が用いられているが，分極反転幅に限界がある．我々は広領域走査可能な導電針を有するAFMを構築し，実際にニオブ酸リチウム基板薄膜に相互作用長数百 μm以上の周期分極反転を実現したので報告する．

責任著者(Corresponding author)

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