半導体の線幅標準に関する研究（第4報） STEMの暗視野画像を用いた線幅測定

2008年度精密工学会秋季大会

セッションID: D15

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主催: 社団法人精密工学会

半導体の線幅標準に関する研究（第4報）

STEMの暗視野画像を用いた線幅測定

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キーワード: 線幅, 半導体, 暗視野

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抄録

半導体産業の高集積化において，回路線幅の計測と評価は大きな役割を果たす．しかし現在，半導体の回路線幅の測定に関して,明確な基準はなく，エッジの決め方で不確かさが生じてしまう．本報では，STEMの暗視野で撮影した画像を解析することで，線幅を測定したので報告する．