近接場光を用いたナノインプリント残膜厚測定法に関する研究（第７報）

細線間における残膜厚計測の実験的検討

抄録

本研究では、次世代リソグラフィー技術として期待されているナノインプリント技術において、その工程で生じる残膜の厚みを高精度に計測する手法として、近接場光を利用した計測法を検討している。前報では、プラズモン共鳴に基づいた近接場光検出機構を備えた膜厚計測装置の開発及び、その基本機能を平面形状のサンプルを用いて検証した。本報では、開発した実験装置を用いて細線間における残膜厚の計測を試みたので、報告する。