酸素還元触媒を用いた純水中でのGe表面のナノスケール加工

抄録

次世代トランジスタのチャネル材料として期待されているGeは、酸化物が水溶性であるという特性から固液界面反応が十分に制御・解明されていない。これまでに我々は、純水中のGe表面に貴金属が付着すると局所的なエッチングが起こる現象を見出し、この現象が貴金属の酸素還元触媒能によってGeの酸化が促進されるために起こることを解明した。さらに、この反応をGe表面の加工に応用することを試みた。