NiPアモルファス基板の超精密平面切削加工による新たな中性子ミラーの開発　第二報

抄録

中性子はソフトマターの内部構造や金属材料の磁気構造を測定するのに非常に有効なプローブだが、小角散乱などの集光光学系の測定精度は光学素子の表面粗さに依存する。従来、表面粗さが優れているという理由からスーパーミラーの基板は研磨された石英であった。本研究では金属材料の超精密切削加工の加工機の剛性を高める・除震を行うなどして同等以上の表面粗さを持つミラー基板を作製する試みを行っている。