多波長逐次露光型移動マスクリソグラフィによるマイクロニードルの形成

抄録

透明基板裏面からのネガ型厚膜フォトレジストへの移動マスク露光によってマイクロニードルの形成が可能である。従来は単一波長(λ=365nm)の紫外線のみを使用しており、形成できる形状に制約があった。本研究ではフォトレジストの吸光特性の測定結果に基づいて、通常は露光に使用されない複数波長の紫外線を使用することでニードル部分と土台部分の形状の自由度を飛躍的に向上させた。