原子層制御したSi立体表面の創製と計測評価法の開発

抄録

ナノエレクトロニクスの重要性が増す中で、高度に制御された3次元(3D)ナノ構造体の形成が求められている。我々は、今回は微細加工技術(リソグラフィー)と表面科学的な表面清浄化技術を組み合わせることで、基板の表面(c軸方向)に対して垂直または傾斜角度を持つ{100}、{110}、{111}面の清浄表面、金属吸着超構造表面の作製を実現した。また立体表面の原子レベル観察をRHEED、LEED、STMにより実現しており、講演で詳細を報告する。