大気圧プラズマを用いた2段階プロセスによる透明基材用反射防止コーティング

抄録

我々は大気圧プラズマCVD法を用いたSiO_x薄膜の低温・高速形成技術の開発を進めている。本研究では、透明基材用反射防止コーティングとして応用できるポーラスなSiO_x薄膜の形成を行うため、HMDSO(hexamethyldisiloxane)とポリスチレンラテックス粒子を用いた独自の大気圧プラズマプロセスを提案した。今回は、本プロセスを用いて形成したSiO_x反射防止コーティングの膜構造および反射防止特性について報告する。