中性子集光用高精度Wolterミラーマンドレルの作製（第14報）

PCVMにおける加工温度と表面粗さの相関

抄録

近年、中性子を用いたイメージング技術が注目されている。大気圧マイクロ波プラズマジェットを用いたPCVM（Plasma Chemical Vaporization Machining）は、サブミクロンオーダの形状創成を可能とし、中性子線の強度不足を補うための反射光学デバイス加工への応用が期待される。本報では、PCVMにおける加工温度と加工後表面粗さの相関に関して報告を行う。