タイコグラフィを用いたXFEL sub-10nm集光光学系のビーム径計測

抄録

我々は硬X線FELにおける10²² W/cm²強度の達成のために sub-10 nm集光光学系を開発している．極微小な集光径評価のためには，デフォーカス位置におけるタイコグラフィ法が適用可能であるが，低次波面収差と照射位置誤差がどちらも存在する場合に，誤った解に収束することが問題となっていた．本研究では，複数のデフォーカス位置での計測手法・再構成アルゴリズムを新たに開発し，SACLA BL3にて実証実験を行った結果について報告する．