円錐ミラーを用いた円筒内面円周一括露光技術における平面マスクパターンの形状補正方法

抄録

円筒試料に円錐ミラーを挿入し、平面に描かれたマスクパターンを反射させて円筒内面に一括でパターンを転写する技術において、文字や模様等の任意パターンを転写するにはマスクパターンを適切に補正させる必要がある。パターン形状を補正した専用のマスクを設計・製作し、円筒内径14mmのSUSパイプ内面に直径10mm頂角90度の円錐ミラーを挿入して露光実験を行い、約2.5mmの円と正方形のパターン形成に成功した。