化学工学会　研究発表講演要旨集
化学工学会第38回秋季大会
セッションID: H308
会議情報

主催: 社団法人　化学工学会

シンポジウム ＜膜分離・吸着用多孔質材料の最近の研究開発動向＞
CVD法で調製したシリカ薄膜の気体分離特性
*荒木 貞夫, 毛利 憲人, 吉満 裕一, 三宅 義和
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キーワード: CVD, silica membrane, gas permeation
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© 2006 社団法人　化学工学会
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