化学工学会第41回秋季大会
セッションID: A116
会議情報
主催:
社団法人 化学工学会
シンポジウム ＜CVD・ドライプロセスシンポジウム －デバイス構造・機能制御の反応工学－＞
RFプラズマCVD法による絶縁膜の形成と強誘電体の劣化保護効果
会議録・要旨集
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発行日: 2009 年
受付日: -
J-STAGE公開日: 2010/05/26
受理日: -
早期公開日: -
改訂日: -
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