化学工学会　研究発表講演要旨集
化学工学会第41回秋季大会
セッションID: U101
会議情報

主催: 社団法人　化学工学会

シンポジウム ＜膜工学の新展開＞
疎水性シリカ膜の開発とヘキサンナノ濾過特性
中筋 雄大, 吉岡 朋久, 金指 正言, *都留 稔了
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キーワード: silica, nanofiltration, hydrophobicity
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© 2009 社団法人　化学工学会
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