化学工学会　研究発表講演要旨集
化学工学会第42回秋季大会
セッションID: N318
会議情報

主催: 化学工学会

モノメチルシランを原料とするHotwire-CVDによるSiC製膜の反応シミュレーション
*亀山 尊寛, 西田 哲, 牟田 浩司, 栗林 志頭眞
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キーワード: CVD, Silicon carbide, Simulation
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