リン修飾ZSM-5触媒によるヘキサンの接触分解

抄録

ZSM-5触媒を用いたナフサの水蒸気接触分解反応は、比較的低温で高いオレフィン収率が得られるが、触媒の失活が速く、実用化には至っていない。本研究では、ZSM-5の耐久性向上を目的とし、リンによる化学修飾を検討した。ナフサのモデルとしてヘキサンの水蒸気接触分解反応を行った。 リン担持量を最適化することにより、リンで修飾したZSM-5触媒は、水蒸気接触分解反応の触媒寿命が向上することを明らかにした。