抄録
ニトロ基と他の還元性官能基の両方を持つ化合物に対してニトロ基を選択的に水素化できれば合成化学上重要な官能基を持つアミンが得られる。水素ガスを水素源として貴金属触媒上で反応を行うと、通常ニトロ基以外の官能基の水素化も進行するため、目的とするアミンの収率が低下するという問題がある。本研究では、PdおよびRhを主金属とした金属間化合物を用い、1気圧水素雰囲気下にてニトロ基のみを選択的に水素化できる高効率な触媒系の開発を目指した。その結果、Pd13Pb9/SiO2およびRhIn/SiO2がニトロスチレン等のニトロ基を高選択的に水素化することを見出したので報告する。