SPring-8/SACLA利用研究成果集
Online ISSN : 2187-6886
Section B
深紫外光源用Gd添加AlN薄膜の高エネルギー光電子分光法による深さ方向解析 (3)
小林 幹弘石原 嗣生泉 宏和西本 哲朗田中 寛之喜多 隆來山 真也市井 邦之
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2013 年 1 巻 3 号 p. 173-177

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抄録
我々は、水銀ランプの代替光源としてGd添加AlN薄膜の開発を進めている。今回、高エネルギー光電子分光(HAXPES)によりアニール前後の試料と電子線照射により劣化した試料の化学結合状態を分析し、発光強度と化学組成の関係を調べた。アニールにより発光強度が増大した試料は、酸化によりAl-O結合状態の領域が増え、窒素流量が大きいほど酸化物成分の割合が増加する傾向が得られているが、今回の結果より窒素流量、及びアニールによるCL強度増加の原因の究明に至る結果は得られなかった。また、電子線照射により劣化した試料は結晶が破壊されており、組成変化が発光強度の低下に繋がったと推測される。
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