レーザー衝撃圧縮下でのスピネル型窒化ケイ素の相安定性

抄録

　スピネル型窒化ケイ素（γ-Si₃N₄）の 100 万気圧以上の圧力下での相安定性をレーザー衝撃圧縮下でのその場Ｘ線回折実験により調べた。その結果、衝撃圧縮によって発生した高温および圧力 130 万気圧の条件下でスピネル型窒化ケイ素が存在することを確認した。さらに圧縮後の膨張過程において、圧力 70 万気圧、および圧力マイナス 10 万気圧に相当する膨張下でも、この物質が存在することを確認した。