ナノインプリントグラフォエピタキシーによって作製した三次元液晶微細構造物の分子配向評価

抄録

ナノインプリントグラフォエピタキシーによって作製した分子配向を有する液晶微細構造物の分子配向を評価するため、BL43IRによる局所領域における偏光IR測定を行った。測定の結果、ラインアンドスペースパターン内の分子が配向していることが分かった。