多重散乱法を用いたXPSにおけるプラズモンロススペクトルの解析

抄録

Ｘ線を照射すると光電子が放出する。光電子が放出・伝搬する過程でポテンシャルが変化し、プラズモンが誘起され、光電子はエネルギーをロスする。多重散乱法は、光電子の挙動を近似なく扱うことにたけている。多重散乱法をもとに、Ｘ線照射により生じるプラズモンピークの解析を行った。これを報告する。