ナフタレン雰囲気中のイオン照射により作製したＤＬＣ薄膜の界面制御

抄録

ナフタレン雰囲気中においてイオンビームアシスト法を用いてＤＬＣ薄膜を作製し、界面制御を行った。界面制御により摩擦・摩耗特性の向上を目的とした。 実験ではイオンビームアシスト法を用いナフタレン雰囲気中でHe⁺イオンビーム照射しDLC薄膜を作製する。界面制御はAr⁺イオンビーム照射を用いた。