ダブルパルスレーザー堆積によるh-BN薄膜の作製

抄録

真空中において、六方晶窒化ホウ素をターゲットとしたXeClエキシマレーザーおよびNd:YAGレーザーを用いたダブルパルスレーザー照射の効果を調べた。紫外レーザーパルスと近赤外レーザーパルスとを適度な時間差を設けて照射すると生成プラズマ中のホウ素と窒素イオンの価数と密度が制御できる。室温で六方晶窒化ホウ素をダブルパルスレーザー照射し制御されたホウ素イオンと窒素イオンを用いて堆積させると、不純物の少ない化学量論組成が維持された薄膜が作製された。