加熱処理によるMgO膜のイオン誘起二次電子収率及び表面状態の変化

村澤 裕子; 片岡 憲秀; 吉野 恭平; 永富 隆清; 高井 義造; 森田 幸弘; 西谷 幹彦; 北川 雅俊

doi:10.14886/sssj2008.30.0.325.0

真空・表面科学合同講演会
（第30回表面科学学術講演会・第51回真空に関する連合講演会）
日本真空協会・社団法人日本表面科学会

セッションID: 5P-080

DOI https://doi.org/10.14886/sssj2008.30.0.325.0

会議情報

主催: 日本真空協会、社団法人日本表面科学会

11月5日（金）

加熱処理によるMgO膜のイオン誘起二次電子収率及び表面状態の変化

*村澤裕子, 片岡憲秀, 吉野恭平, 永富隆清, 高井義造, 森田幸弘, 西谷幹彦, 北川雅俊

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抄録

プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）内部にはプラズマエッチングからガラスを保護するためにＭｇＯ膜が用いられており，このＭｇＯ膜のイオン誘起二次電子収率γがＰＤＰの特性を大きく左右する．本研究では，ＭｇＯ膜のγと表面特性の相関を明らかにすることを目的としている．本講演では，ＰＤＰ製造プロセスにおいて不可欠である加熱処理がＭｇＯ膜のγと表面特性へ与える影響について調べた結果について報告する．

責任著者(Corresponding author)

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