オージェ電子分光法分析における電子線誘起試料損傷の標準化とデータベース化　－SiO₂薄膜表面の損傷過程－

抄録

AESの高空間分解能化に伴い，AES分析中に起きる試料表面の損傷が問題となっている．本講演では，損傷評価等の国際標準化に向けて行っている，SiO<SUB>2</SUB>表面の電子線誘起損傷過程の解明に関して得られた結果を紹介する．また，損傷の予測や評価に必要なデータベースの構築，測定手順の一般化，シミュレータが果たすであろう役割などについても議論する．