グラフェン膜を含むｎｍ厚電極膜への可逆的非破壊電気コンタクトの形成法

抄録

薄い膜の積層構造を利用したデバイスの開発においては、電気コンタクトを形成して特性を測定することが必須である。従来のプローバーでは、試料表面を削ってコンタクトを形成しており、極薄膜やグラフェンなどの二次元物質では試料を破壊してしまう。そのため、試料にパターニングを施した電極を蒸着するなどの方法を採っていた。今回、試料を破壊せずに簡便に電気コンタクトを形成する方法を開発した（特許出願済）ので報告する。